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晶圓代工廠商如果想要研發(fā)全新的制程工藝，那么就需要更加先進(jìn)的光刻機(jī)，而現(xiàn)在最為先進(jìn)的EUV光刻機(jī)幾乎都被ASML所壟斷，而現(xiàn)在有消息稱(chēng)ASML計(jì)劃在年底出貨最新一代的光刻機(jī)，產(chǎn)能大幅提升，可以為今后的2nm工藝制程做準(zhǔn)備。

作為目前EUV光刻機(jī)領(lǐng)域的絕對(duì)領(lǐng)導(dǎo)者，ASML的EUV光刻機(jī)也經(jīng)過(guò)了多次迭代，讓能效以及產(chǎn)能大幅提升，目前ASML出貨的最新光刻機(jī)為NXE：3600D，而下半年將要出貨的是NXE：3800E光刻機(jī)，與目前的光刻機(jī)相比，NXE：3800E光刻機(jī)的曝光能力達(dá)到了30mJ/cm2，這個(gè)性能水平相當(dāng)于每小時(shí)能夠制造195片晶圓，經(jīng)過(guò)優(yōu)化后產(chǎn)能可以達(dá)到220片晶圓，與目前的光刻機(jī)相比提升了30%，很顯然產(chǎn)能的提升也將減緩現(xiàn)在高端芯片產(chǎn)能供應(yīng)不足的局面。

至于價(jià)格的話，屬于行業(yè)機(jī)密了，不過(guò)有報(bào)道稱(chēng)NXE：3600D光刻機(jī)的售價(jià)超過(guò)了1.5億美元，也就是10億元人民幣，那么更加先進(jìn)的NXE：3800E光刻機(jī)應(yīng)該來(lái)說(shuō)只會(huì)更加昂貴，畢竟現(xiàn)在整個(gè)市場(chǎng)就是ASML說(shuō)了算，而且光刻機(jī)也是供不應(yīng)求，包括三星、英特爾以及臺(tái)積電都將選用ASML的最新一代的光刻機(jī)，如果下半年順利交付的話，加上調(diào)試、安裝等時(shí)間，預(yù)計(jì)三星可以在明年將這款光刻機(jī)用于2nm制程晶圓的生產(chǎn)之中。