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三星公布制程工藝路線圖規(guī)劃:2025年2nm,2027年1.4nm

三星公布制程工藝路線圖規(guī)劃:2025年2nm,2027年1.4nm

Salunce / 2023-06-28 10:1245433

現(xiàn)在高端芯片領(lǐng)域的代工廠商主要由臺(tái)積電和三星兩家企業(yè)把持,前不久有消息稱臺(tái)積電已開始試產(chǎn)2nm工藝芯片,預(yù)計(jì)會(huì)在2025年正式量產(chǎn),并且1.4nm制程也已經(jīng)正在研發(fā)中,那么作為競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的三星會(huì)作何應(yīng)對(duì)呢?

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今天,三星在年度三星代工論壇(SFF 2023)上正式公布了自己的制程工藝路線圖規(guī)劃,表示他們會(huì)在2025年推出2nm級(jí)別的SF2制程工藝,2026年推出針對(duì)高性能計(jì)算優(yōu)化的SF2P工藝,2027年推出面向汽車應(yīng)用的SF2A工藝,屆時(shí)還將帶來1.4nm級(jí)別的SF1.4工藝,因此我們應(yīng)該能在2025年見到三星代工的2nm芯片,2027年看到他們代工的1.4nm芯片。

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不過我們也知道,由于前兩年高通的驍龍888和驍龍8 Gen 1移動(dòng)芯片均由三星代工,但功耗表現(xiàn)相當(dāng)拉胯,而臺(tái)積電代工驍龍8+ Gen 1后,功耗表現(xiàn)就有了顯著提升,因此目前高通對(duì)于三星代工技術(shù)顯然是很失望的,三星要想重新獲得芯片代工領(lǐng)域更多的市場(chǎng)份額,不僅需要提升制程工藝,還需解決功耗優(yōu)化等方面的問題才能和臺(tái)積電相抗衡。


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